Optisches CMOS-Emissionsspektrometer W5 für die Metallanalyse
Spezifikation: CMOS-basiert, Funkenentladung, Metallerkennung. Extrem niedrige Nachweisgrenzen. Hohe Integration, Zuverl
Beschreibung
Basisinformation.
Modell Nr. | W5 |
Dispersives Element | Gitterspektrometer |
Zertifizierung | ISO9001, CE |
Maßgeschneidert | Maßgeschneidert |
Analysematrix | Fe, Al, Cu, Zn, Ni, Mg, Pb usw. |
Gitterbrennweite | 401 mm |
Artikel | Optisches Emissionsspektrometer |
Analysezeit | 25s |
Analytische Lücke | 4mm |
Entladestrom | Maximal 400A |
Lichtquellentyp | Digital |
Arbeitskraft | AC220V 50/60Hz 1200W |
Entladungsfrequenz | 100–1000 Hz |
Arbeitstemperatur | 10~30 Grad |
Elektrodentyp | Wolfram-Sprühelektrode |
Wellenlängenbereich | 140–680 nm |
Detektor | Hochleistungs-CMOS-Array |
Modell Nr. | W5 |
Transportpaket | Holzpaket |
Warenzeichen | Wuxi Jinyibo |
Herkunft | Jiangsu Wuxi |
HS-Code | 9027300000 |
Produktionskapazität | 30 Sätze/Monat |
Produktbeschreibung
Spezifikation: CMOS-basiert, Funkenentladung, Metallerkennung. Extrem niedrige Nachweisgrenzen. Hohe Integration, Zuverlässigkeit, Stabilität. Energieeinsparung um 50 %, Materialeinsparung. Geringe Betriebskosten. Geringe Größe, geringes Gewicht, einfach zu bewegen und zu installieren. Einfaches Upgrade mehrerer Substrate, ohne Änderungen zur Erhöhung der Hardware. Zusammenfassung W5 Optische Emissionsspektrometer bringen fortschrittliche Technologie aus Europa ein. Es handelt sich um das Arc/Spark-OES der 4. Generation mit hoher Leistung, das die Betriebskosten für die Metallanalyse senkt und die neueste Forschung und Entwicklung von Detektionsgeräten darstellt. Das gesamte optische Design wurde verbessert und mit Verbesserungen der CMOS-Technologie konnte die Leistung des W5 weiter verbessert werden, während die Hauptvorteile früherer Geräte erhalten blieben. Das CMOS-Spektrometer verfügt nicht nur über die vollständigen Spektrumseigenschaften eines CCD-Spektrometers, sondern verfügt auch über eine extrem niedrige Nachweisgrenze für nichtmetallische Elemente wie C, S, P, B, As, N usw. Die Bedienung ist einfach und leicht zu erlernen. Das Testergebnis ist stabil und genau. Es ist eine gute Wahl für alle gängigen Metalle für die Qualitätskontrolle eingehender und ausgehender Produkte. Anwendung Das optische Emissionsspektrometer W5 (Spark OES) wird für Anwendungen in der Metallelementanalyse und Spurenelementanalyse für Wissenschaft und Industrie wie Metallurgie, Gießerei, Maschinenbau usw. verwendet. Wissenschaftliche Forschung, Produktinspektion, Automobil, Petrochemie, Schiffbau, Elektrik, Luft- und Raumfahrt, Kernenergie, Schmelzen, Verarbeitung und Recycling von Metallen und Nichteisenmetallen. Es umfasst den gesamten Elementanalysebereich, gleichzeitig kann der Elementanalyseumfang jedoch individuell angepasst werden. Erkennungsmatrizen: Eisen (Fe) und seine Legierungen (Stahllegierung, Gusseisen, Fe-Niedrig-Legierung, Fe-Cr-Stahl, Fe-Guss). Eisen, Fe-Cr-Guss, Fe-Mn-Stahl, Fe-Werkzeugstahl usw.)Aluminium (Al) und seine Legierungen (Al-Si-Legierung, Al-Zn-Legierung, Al-Cu-Legierung, Al-Mg-Legierung, Rein- Al-Legierung usw.)Kupfer (Cu) und seine Legierungen (Messing, Kupfer-Nickel-Zn, Aluminiumbronze, Zinn-Blei-Bronze, Rotkupfer, Be-Bronze, Si-Bronze usw.)Nickel (Ni) und seine Legierungen (reines Ni). , Monel-Metall, Hadtelloy-Legierung, Incoloy, Inconel, Nimonic usw.)Kobalt (Co) und seine Legierungen (Co-Orientierung, Legierung mit niedrigem Co-Gehalt, Stellit 6,25,31, Stellit 8,WI 52, Stellit 188, F)Magnesium( Mg) und seine Legierungen (Reines Mg, Mg/Al/Mn/Zn-Legierungen)Titan(Ti) und seine LegierungenZink(Zn) und seine LegierungenBlei(Pb) und seine LegierungenZinn(Sn) und seine LegierungenArgentum(Ag) und seine LegierungenKlein Proben-, Sondergrößenproben- und DrahterkennungsparameterArtikel | Index |
Optisches System | |
Optischer Aufbau | Das Vollvakuum-Optiksystem mit Paschen-Runge-Konstruktion |
Zimmertemperatur | 35 °C ± 0,5 °C |
Wellenlängenbereich | 170–580 nm |
Brennweite | 400mm |
Gitterlinie | 3600 m1/mm |
Spektralliniendispersion erster Ordnung selten | 1,2 nm/mm |
Detektor | Lineares Multiblock-Hochleistungs-CMOS-Array |
Durchschnittliches Auflösungsverhältnis | 22 Uhr/Pixel |
Anregungstabelle | |
Gas | Rauschendes Argon (99,999 %) |
Argon-Durchflussrate | Bei Erregung: 3–5 l/min Standby-Zeit: Kein Standby-Verkehr erforderlich |
Elektrode | Wolfram-Elektroden-Technologie |
Säubern | Automatische Spülfunktion |
Bilden | Design zur Selbstkompensation thermischer Verformung |
Analysieren Sie die Lücke | Probentisch: 3,4 mm |
Anregungslicht | |
Typ | HEPS |
Frequenz | 100-1000 Hz |
Entladestrom | 1-400A |
Spezielle Technologie | Optimierung des Entwurfs der Entladungsparameter |
Vorverbrennung | Hochenergetische Vorverbrennungstechnologie |
Prozessor | High-End-ARM, Hochgeschwindigkeits-Datensynchronisationserfassung und -verarbeitung |
Datenerfassungssystem | |
Schnittstelle | Ethernet-Datenübertragung basierend auf DM9000A |
Eingeben | 220VAC 50/60Hz |
Die Anforderungen an Energie und Umwelt | |
Leistung | Maximal: 700 W, Standby: 40 W |
Arbeitstemperatur | 10-35 °C (Temperatur ≥5 °C) |
Arbeitsfeuchtigkeit | 20–85 % |
Verpackung & Versand
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